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技術(shù)文章

電阻測量的三個基本知識-手動無損渦流法電阻測量儀EC-80P(便攜式)

電阻測量的定義

通常,電阻(電阻)用于評估物質(zhì)或材料的電導(dǎo)率(導(dǎo)電性)。我認(rèn)為下面的Ω(Ohm)是電阻的評估標(biāo)準(zhǔn)(許多人在“歐姆定律”中都記得它)。

電阻_(電阻)=Ω[讀數(shù):歐姆]

⇒表示電流難易度的單位

R = V / I * V =電壓,I =電流

由數(shù)字萬用表(絕緣電阻表)測量的絕緣電阻也通常以Ω單位表示。

電阻單位還根據(jù)物質(zhì)或材料的形狀而適當(dāng)?shù)厥褂茫⑶腋鶕?jù)測量目標(biāo)而主要使用,因?yàn)榇嬖卺槍γ總€行業(yè)的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(例如,JIS)的電阻單位。關(guān)于電阻的表示法是不同的。

除了電阻[Ω],我們的電阻測量系統(tǒng)還支持以下兩種類型的電阻測量單位:電阻[Ωcm]和薄層電阻[Ω/□]。

 

電阻=Ωcm[讀數(shù):歐姆厘米]

*也稱為比電阻。

⇒物質(zhì)的“體積電阻值”

它主要用于表示較厚物體的電阻,例如硅片,大塊以及導(dǎo)電橡膠和塑料。

電阻:R的值由以下等式表示,其中ρ是電阻,L是導(dǎo)體的長度,A是導(dǎo)體的截面積。

R =ρ×[L / A]

因此,電阻值ρ由下式表示。

ρ= V / I×[A / L]

*當(dāng)單位為Ωcm時,該值為1 cm x 1 cm x 1 cm的體積。根據(jù)測量目標(biāo)的不同,它可能以Ωm(歐姆表)表示。

 

薄層電阻=Ω/□[讀數(shù):歐姆標(biāo)準(zhǔn)平方]

*也稱為比電阻。

⇒物質(zhì)的“表面電阻值”

它主要用于表示片狀材料(例如薄膜和膜狀材料)的電阻。

一般而言,當(dāng)表示三維電導(dǎo)率時,電阻由下式表示。

R =ρ×L / A = L / W×ρs

假設(shè)樣品的長度:L和寬度:W是均勻的,則電阻:R和薄層電阻:ρs相等。

薄層電阻:ρs也可以表示為通過將電阻:ρ除以厚度:t得到的值。

觸點(diǎn)類型:4種探頭法測量

在這里,我們將介紹接觸式電阻測量原理的概述(4探針法)(該原理的詳細(xì)信息在材料中進(jìn)行了說明)。

(*對于我們的產(chǎn)品,還有一個系統(tǒng)會根據(jù)電阻范圍使用不同的測量方法。)

 

四探針法主要用于接觸式情況,可以測量1E-3(1m)到1E + 9(1G)Ω/□電阻范圍。

這是在廣泛領(lǐng)域中測量電阻的基本測量方法。

 

●在四探針法中,將按照以下步驟進(jìn)行測量。

(1)將四個針狀電極直線地放在測量樣品上。

(2)兩個外部探頭之間流過恒定電流。

(3)通過測量兩個內(nèi)部探針之間的電位差來計(jì)算電阻。

 

如下圖所示,電阻和薄層電阻的測量原理相同。 

電阻(電阻率)

座阻力

我們的4探針測量系統(tǒng)是符合JIS和ASTM標(biāo)準(zhǔn)的測量方法和校正方法,已被用作行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)測量系統(tǒng),尤其受到硅相關(guān)用戶的信賴。我會。

此外,關(guān)于可追溯性,我們使用符合NIST(美國國家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院)標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)樣品作為設(shè)備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),進(jìn)行認(rèn)真的裝運(yùn)前檢驗(yàn)。

* 4探針法和“ 4端子法”具有相同的測量原理,唯1的區(qū)別是與樣品接觸的電極部分的形狀不同。4探針的針距為1 mm =測量點(diǎn):大約3 mm,與4端子探針相比,可以在非常小的點(diǎn)上進(jìn)行測量。另外,如在四端子法中一樣,通過消除在樣品上形成電極的需要可以提高工作效率。

 

<4個探頭測量參考視頻:AIST>

此外,納普森的4針電阻測量設(shè)備符合日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(JIS)和美國材料測試協(xié)會(ASTM)設(shè)定的以下標(biāo)準(zhǔn)。

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

JIS H 0602-1995

硅單晶和硅晶片的四探針法電阻測量方法

JIS K 7194-1994

導(dǎo)電塑料四探針法電阻測試方法

美國材料試驗(yàn)學(xué)會

ASTM F 84-99(SEMI MF84)

用在線四點(diǎn)探針測量硅晶片電阻率的標(biāo)準(zhǔn)測試方法

ASTM F 374-00a

使用單配置程序的在線四點(diǎn)探針對硅外延層,擴(kuò)散層,多晶硅層和離子注入層的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測試方法

ASTM F 390-11

帶共線四探針陣列的金屬薄膜的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測試方法

ASTM F 1529-97

雙重配置程序的在線四點(diǎn)探針通過薄層電阻均勻性評估的標(biāo)準(zhǔn)測試方法

非接觸型:渦流法測量

在這里,我們將介紹非接觸式(渦流法)電阻測量原理的概況(該原理的詳細(xì)說明在材料中)。

(*在我們的產(chǎn)品中,根據(jù)電阻范圍,還有另一種非接觸式電阻測量方法系統(tǒng)。請單擊此處。請參考。此外,關(guān)于非接觸式測量原理,除了渦流方法外,但很抱歉給您帶來麻煩請聯(lián)系我們)

 

渦流法主要用于非接觸式,可測量1E-3(1m)至1E + 4(10k)Ω/□電阻范圍。

它可用于半導(dǎo)體,化合物半導(dǎo)體,液晶和新型碳基材料等廣泛領(lǐng)域的測量。

渦電流測量系統(tǒng)使用電磁感應(yīng)產(chǎn)生的渦電流來測量電阻。

非接觸式測量探頭單元的探頭芯(磁性材料)在兩側(cè)(上下)以一定的間隙排列。

 

<非接觸式測量探頭單元的結(jié)構(gòu)>

●在渦流法中,按照以下步驟進(jìn)行測量。

(1)當(dāng)在探針芯之間施加高頻以產(chǎn)生磁通量并且插入樣本時,樣本中產(chǎn)生渦流。

(2)此時,(1)渦電流流過樣品→(2)樣品中消耗了電流,發(fā)生了功率損耗。

 →③電路中的電流成比例降低。檢測該減小的電流值。

(3)由于檢測到的電流值與樣品的電阻成反比關(guān)系,請使用此值。

 座電阻或電阻是從電流值和座電阻的校準(zhǔn)曲線(計(jì)算公式)得出的。

 ?。?計(jì)算電阻時需要樣品厚度信息)

 

非接觸型(雙面探頭型)和非破壞型(單面探頭型)

如上所述,在非接觸型中,通過將樣品插入上下配對的探針之間的間隙中來進(jìn)行測量。

因此,探針單元的形狀不可避免地限制了樣品的厚度和相應(yīng)的尺寸。

  • 樣品厚度限制:探針之間的間隙通常為2 mm。
  • 樣品支架尺寸限制:由于U形單元的形狀,深度受到限制。

 

DSC_0082因此,為了處理大樣本和厚樣本,我們通過應(yīng)用渦流技術(shù)開發(fā)并制造了一種單面手持式探頭。

如左圖所示,只需垂直于樣品表面觸摸探頭即可進(jìn)行測量。

聯(lián)系人:林經(jīng)理
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