在這里,我們將介紹接觸式電阻測量原理的概述(4探針法)(該原理的詳細(xì)說明在材料中)。
(*對于我們的產(chǎn)品,還有一個系統(tǒng)會根據(jù)電阻范圍使用不同的測量方法。)
四探針法主要用于接觸式情況,可以測量1E-3(1m)到1E + 9(1G)Ω/□電阻范圍。
這種測量方法是在廣泛領(lǐng)域中測量電阻的基礎(chǔ)。
●在四探針法中,將按照以下步驟進(jìn)行測量。
(1)將四個針狀電極直線地放在測量樣品上。
(2)兩個外部探頭之間流過恒定電流。
(3)通過測量兩個內(nèi)部探針之間的電位差來計算電阻。
如下圖所示,相同的測量原理用于電阻和薄層電阻的測量。
我們的4探針測量系統(tǒng)是符合JIS和ASTM標(biāo)準(zhǔn)的測量方法和校正方法,已被用作行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)測量系統(tǒng),尤其受到硅相關(guān)用戶的信賴。我會。
另外,關(guān)于可追溯性,我們使用符合NIST(美國國家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院)標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)樣品作為設(shè)備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),進(jìn)行認(rèn)真的裝運前檢驗。
* 4探針法和“ 4端子法”的測量原理相同,唯1的不同是與樣品接觸的電極部分的形狀不同。4探針的針距為1 mm =測量點:大約3 mm,與4端子探針相比,可以在非常小的點上進(jìn)行測量。另外,如在四端子法中一樣,通過消除在樣品上形成電極的需要可以提高工作效率。
此外,納普森的4針電阻測量設(shè)備符合日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(JIS)和美國材料測試協(xié)會(ASTM)設(shè)定的以下標(biāo)準(zhǔn)。
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
JIS H 0602-1995
硅單晶和硅晶片的四探針法電阻測量方法
JIS K 7194-1994
導(dǎo)電塑料四探針法電阻測試方法
美國材料試驗學(xué)會
ASTM F 84-99(SEMI MF84)
用在線四點探針測量硅晶片電阻率的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
ASTM F 374-00a
使用單配置程序的在線四點探針對硅外延層,擴(kuò)散層,多晶硅層和離子注入層的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
ASTM F 390-11
帶共線四探針陣列的金屬薄膜的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
ASTM F 1529-97
雙重配置程序的直插式四點探針的薄層電阻均勻性評估的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
日本napson4探針法測量儀
測量儀:RT-70V>
<測量階段>
*根據(jù)目的和用途,可以從以下選擇測量階段。
測量目標(biāo)
測量尺寸
*組合測量取決于舞臺類型。
圓形:?300mm(12英寸),方形:?730x920mm,可廣泛使用。
測量范圍
[電阻(電阻率)]1μ?300kΩ? cm
[板電阻] 5m?10MΩ/ sq
測量儀:RT-70V>
<測量階段>
*根據(jù)目的和用途,可以從以下選擇測量階段。
測量目標(biāo)
測量尺寸
*組合測量取決于舞臺類型。
圓形:?300mm(12英寸),方形:?730x920mm,可廣泛使用。
測量范圍
[電阻(電阻率)]1μ?300kΩ? cm
[板電阻] 5m?10MΩ/ sq
日本napson4探針法測量儀
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