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產(chǎn)品資料
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日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

產(chǎn)品名稱: 日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
產(chǎn)品型號:
產(chǎn)品特點: 日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
?型號NanoCVD-8G(用于石墨烯合成)
?型號NanoCVD-8N(用于碳納米管)
無需使用大型制造設備,每批只需30分鐘即可輕松實現(xiàn)石墨烯/ CNT合成。
CVD方法(化學氣相沉積)
CVD法是已經(jīng)為多種目的而建立的穩(wěn)定技術(shù),并且當考慮將來石墨烯和CNT的大規(guī)模合成時是現(xiàn)實的方法。

日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器 的詳細介紹

日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

 

特性

  • 無需使用大型制造設備即可輕松進行石墨烯/ CNT(SWNT)成膜實驗。
  • 每批僅30分鐘!
  • 冷壁型高效,高精度的過程控制
  • 快速升溫:RT→1100℃/約3分鐘
  • 具有高精度溫度流量控制和出色重現(xiàn)性的高性能機器
  • 操作簡便!5英寸觸摸屏可進行操作和配方管理
  • 多可以創(chuàng)建和保存30個配方,30個合成程序步驟
  • 軟件為標準設備,輸出為CSV文件在PC上記錄數(shù)據(jù)
  • USB電纜連接,在PC端創(chuàng)建配方→可以上傳到設備
 
   
   
 

外型尺寸

 
   
   
 

主要規(guī)格

A.主要規(guī)格 
1.反應室 不銹鋼SUS304泄漏檢查
2.加熱階段 陶瓷制成
3.相應的樣本量 20 x 40毫米
4.加熱加熱器 高純石墨加熱器Max1050℃
5.溫度控制 K型熱電偶標準附件(安裝在加熱臺下)
  
B.過程控制設備規(guī)格 
1.氣體控制 質(zhì)量流量控制器x 3(Ar,H2,CH4)
2.壓力控制 20托FS
3.真空排氣 包括愛德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3(3立方米/小時)
4.操作面板 正面安裝5英寸觸摸屏(歐姆龍制造)
5.風冷 用冷卻風扇冷卻外殼內(nèi)部
6.控制系統(tǒng) PLC自動過程控制
  
C.軟件(標準附件) 
1. nanoCVD軟件 標配(已安裝石墨烯的標準程序)
2.界面 USB 2.0連接
3.設置數(shù) 多30個配方,30個程序創(chuàng)建和保存步驟
  
D.氣體導入連接規(guī)格 
1.工藝氣體 1/4英寸世偉洛克卡套管接口,用于Ar,H2,CH4 x 3
2.載氣 Φ6mm推鎖式管接頭,用于N2或Ar x 1
  
E.安全裝置 
1.過熱 由加熱臺安裝熱電偶控制
2.機殼內(nèi)部過熱 從內(nèi)部溫度開關
3.氣壓異常 來自質(zhì)量流量控制器
4.真空度降低 來自真空傳感器
  
F.實用程序 
電源 AC200V單相50 / 60Hz 13A
1.工藝氣壓 30psi 200sccm以下
2.載氣壓力 60-80磅/平方英寸
  
G.尺寸/重量 
1.尺寸 405mm(寬)x 415mm(深)x 280mm(高)
2.重量 約27公斤
 
   

nanoCVD-8G(石墨烯)

納米CVD-8N(CNT)


帶旋轉(zhuǎn)泵的nanoCVD-8G

通過CVD化學氣相沉積法在短時間內(nèi)在金屬基底催化劑(Cu,Ni箔等)上合成單層石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平臺上以醉高1100°C的高溫烘烤,并在減壓下供應原料氣體(甲烷),氮氣和氫氣。

◇◆標準設備配置◆◇

  • ●用于石墨烯生成,真空過程控制
  • 標配旋轉(zhuǎn)泵(選件:TMP,擴散泵或干泵)
  •  3個供氣系統(tǒng)(標準)
  • 樣品臺大1100℃
  •  K型熱電偶


*以下選項也可滿足其他要求的實驗目的(單獨討論)。

  • 增加氣體導入口(改變和增加氣體種類)
  • 增加干泵系統(tǒng)
  • 增加額外的腔室/加熱臺并改變臺結(jié)構(gòu)

 


使用nanoCVD-8G樣品加熱臺] [nanoCVD-8G后面板]生產(chǎn)的石墨烯的拉曼光譜


日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

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